Page 55 - 中国药房2023年10期

0.025 0.035 0.035 0.035
0.020 0.030 0.030 0.030
0.025 0.025 0.025
0.015 4 0.020 0.020
AU 0.010 AU 0.015 3 AU 0.015 AU 0.020 3
0.015
0.005 6 10 0.010 0.010 0.010
1 3 5 7 8 9 11 0.005 7 0.005 0.005 7
0 0 12 9 0 0 1 2 9
－0.005 －0.005 －0.005 －0.005
0 5 10 15 20 25 30 35 0 5 10 15 20 25 30 35 0 5 10 15 20 25 30 35 0 5 10 15 20 25 30 35
t/min t/min t/min t/min
A.系统适用性待测溶液 B.供试品溶液/未破坏溶液 C.空白辅料溶液 D.酸破坏供试品溶液
0.035 0.035 0.035 0.035
0.030 0.030 0.030 0.030
0.025 0.025 0.025 0.025
0.020 0.020 0.020
AU 0.015 3 7 AU 0.015 3 AU 0.015 3 AU 0.020 3
0.015
0.010 0.010 0.010 0.010
0.005 1 2 9 0.005 12 7 9 0.005 12 7 9 0.005 1 2 7 9
0 0 0 0
－0.005 －0.005 －0.005 －0.005
0 5 10 15 20 25 30 35 0 5 10 15 20 25 30 35 0 5 10 15 20 25 30 35 0 5 10 15 20 25 30 35
t/min t/min t/min t/min
E.碱破坏供试品溶液 F.氧化破坏供试品溶液 G.光照破坏供试品溶液 H.高温破坏供试品溶液
1：杂质I；2：未知杂质；3：奥卡西平；4：杂质N；5：杂质K；6：杂质A；7：杂质D；8：杂质L；9：杂质B；10：杂质E；11：杂质C
图1 系统适用性试验和破坏试验的UPLC图
2.4 破坏试验 表2 奥卡西平及有关物质的线性关系、校正因子、检测
精密称取奥卡西平片样品（批号 18108）适量（约相 限和定量限
待测成分 回归方程 r 线性范围/（μg/mL） 校正因子 检测限/（μg/mL）定量限/（μg/mL）
当于奥卡西平50 mg）共5份，置于50 mL容量瓶中，加入
奥卡西平 y＝21 951x－159.58 0.999 9 0.192～1.440 1.00 0.046 0.152
乙腈10 mL，超声溶解，然后分别进行酸破坏（加1 mol/L 杂质A y＝21 885x－1 794.90 0.999 8 1.019～7.639 1.00 0.037 0.122
杂质B y＝18 752x－1 481.62 0.999 7 0.208～1.559 1.17 0.049 0.162
盐酸溶液 2 mL，室温避光放置 2 h 后，加入 1 mol/L 氢氧
杂质C y＝62 446x－1 575.53 0.999 9 0.230～1.727 0.35 0.027 0.090
化钠溶液 2 mL）、碱破坏（加 1 mol/L 氢氧化钠溶液 2 杂质D y＝60 272x－3 612.11 0.999 7 0.389～2.915 0.36 0.077 0.258
杂质E y＝354 048x－4 224.70 0.999 7 0.182～1.364 0.06 0.040 0.132
mL，室温避光放置2 h后，加入1 mol/L盐酸溶液2 mL）、 杂质I y＝15 646x+39.82 0.999 5 0.393～2.945 1.40 0.114 0.380
氧化破坏（加 30% 过氧化氢溶液 5 mL，室温避光放置 5 杂质K y＝23 556x－822.44 0.999 8 0.199～1.493 / 0.054 0.181
杂质L y＝15 068x－838.02 0.999 6 0.199～1.490 / 0.055 0.185
h）、光照破坏（2 000 lx 照射 24 h）、高温破坏（90 ℃水浴 杂质N y＝216 751x－5 643.39 0.999 9 0.200～1.503 0.10 0.039 0.130
24 h）试验。待试验结束后，取上述各溶液，用“2.2.1”项 /：非特定杂质，无需计算校正因子

下溶剂稀释至刻度，摇匀，滤过，取续滤液，按“2.1”项下 2.6 检测限与定量限
色谱条件进样测定，记录色谱图，并以未进行上述试验 取“2.2.2”项下混合对照品溶液，用“2.2.1”项下溶剂
的供试品溶液（批号 18108）作为未破坏溶液进行对比。 逐级稀释，再按“2.1”项下色谱条件进样测定，以信噪比
结果显示，在不同破坏条件下检出的杂质种类（图1D～ 3∶1计算检测限，信噪比10∶1计算定量限。结果见表2。
图1H）与未破坏溶液（图1B）基本一致，奥卡西平色谱峰 2.7 精密度试验
与各杂质色谱峰均能有效分离；其中，奥卡西平对氧、光 取奥卡西平片样品（批号 18108），按“2.2.4”项下方
法制备供试品溶液，再按“2.1”项下色谱条件连续进样6
照均具有较好的稳定性，酸破坏条件下杂质 I 的含量有
次，记录峰面积。结果显示，供试品溶液中仅检出杂质
所增加，高温条件下杂质 D 的含量增加较为明显，碱破
B、D、I和未知杂质，奥卡西平和上述杂质峰面积的RSD
坏条件下未知杂质和杂质B、D的含量均有明显增加。
为0.2%～2.7%（n＝6），表明方法精密度良好。
2.5 线性关系和校正因子考察
2.8 重复性试验
依次移取“2.2.2”项下奥卡西平对照品溶液及单个
取同一批奥卡西平样品（批号 18108），按“2.2.4”项
杂质对照品储备液 0.2、0.5、0.8、1、1.2、1.5 mL，置于 100
下方法平行制备供试品溶液6份，再按“2.1”项下色谱条
mL 容量瓶中，用“2.2.1”项下溶剂稀释至刻度，摇匀，制
件进样测定，记录峰面积。结果显示，供试品溶液中仅
成系列线性溶液，再按“2.1”项下色谱条件进行测定，记
检出杂质B、D、I和未知杂质；按加校正因子的主成分自
录峰面积。以奥卡西平和各杂质质量浓度（x）为横坐 身对照法计算杂质B、D、I的含量，按不加校正因子的主
标、峰面积（y）为纵坐标进行线性回归，并按下式计算校 成分自身对照法计算未知杂质的含量，得上述杂质含量

正因子：校正因子＝奥卡西平线性方程的斜率/杂质线性 及总含量的 RSD 分别为 1.5%、3.4%、2.0%、4.0%、1.1%
方程的斜率。结果见表2。 （n＝6）。

中国药房 2023年第34卷第10期 China Pharmacy 2023 Vol. 34 No. 10 · 1201 ·